Πλήρως αυτόματη συμπαγή ηλεκτρική εκτόξευση κενού για μεσαία ή μικρά εργοστάσια τούβλων από πηλό

Εισαγωγή Εξοπλισμού
Ο συμπαγής εξωθητής είναι μια μηχανή κεραμικών τούβλων κενού ενός σταδίου, σχεδιασμένη για μικρά έως μεσαία εργοστάσια ψημένων πλίνθων από πηλό. Εξαλείφει το συμβατικό άνω τμήμα ανάμειξης και είναι σταθερά βιδωμένο στο στόμιο του μίξερ/εξωθητή ανάντη, δημιουργώντας μια δομή ενός τεμαχίου που μειώνει σημαντικά το συνολικό μήκος και μειώνει τις απαιτήσεις ύψους του κτιρίου.

Εφαρμογή σε Εργοστάσιο Πλίνθων από Πηλό:
Χρησιμοποιείται για την εξώθηση κενού προ-επεξεργασμένου πηλού, σχιστόλιθου ή μειγμάτων από γαιάνθρακα σε υγρούς πλινθόπλινθους σε ένα πέρασμα, έτοιμους για κοπή, στοίβαξη, ξήρανση και ψήσιμο κατάντη.

Λειτουργία:
• Απομάκρυνση κενού: επιτυγχάνει κενό –0,08 MPa για την απομάκρυνση του αέρα, αυξάνοντας την πυκνότητα του πλίνθου;
• Συνεχής εξώθηση: η άμεση σύζευξη με το μίξερ ανάντη εξασφαλίζει σταθερή, αδιάλειπτη απόδοση;
• Εξοικονόμηση χώρου: το συνολικό μήκος της μηχανής είναι ~30% μικρότερο από τους παραδοσιακούς εξωθητές δύο σταδίων, ιδανικό για αναβαθμίσεις ή εργοστάσια με περιορισμένο ύψος.

Πλεονεκτήματα Εξώθησης:

• Το στόμιο ενός τεμαχίου εξαλείφει τη διαρροή λάσπης, ενισχύοντας τον ρυθμό σχηματισμού σε >98%;
• Ο συμπαγής θάλαμος κενού μειώνει τη χρήση ενέργειας κατά ~15%;
• Η κεφαλή μήτρας γρήγορης αλλαγής επιτρέπει την αλλαγή καλουπιού σε 30 λεπτά;
• Λειτουργία χαμηλού θορύβου ≤75 dB(A).

Βασικές Προδιαγραφές:

• Πίεση εξώθησης: 2.0–3.5 MPa
• Επίπεδο κενού: -0.08 MPa
• Χωρητικότητα: 8.000–12.000 τυπικά τούβλα/ώρα
• Εγκατεστημένη ισχύς: 45–75 kW
• Τύποι τούβλων: συμπαγή, διάτρητα, κοίλα μπλοκ
• Διαστάσεις: περίπου 4,5 m × 1,6 m × 1,8 m

Αυτή η συμπαγής μηχανή εξώθησης τούβλων είναι η καταλληλότερη για τους ακόλουθους δύο τύπους κλίμακας εργοστασίων πλίνθων από πηλό:

1. Μικρά έως μεσαία εργοστάσια τούβλων (3.000–20.000 t τελικών τούβλων ετησίως, που λειτουργούν σε μία ή δύο βάρδιες).

2. Έργα αναβάθμισης με περιορισμένο ύψος ή μήκος κτιρίου ή έργα έκτακτης ανάγκης/βραχυπρόθεσμα που απαιτούν ταχεία ανάπτυξη σε ένα συμπαγές αποτύπωμα.